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SEMICON Japan(セミコン・ジャパン)2010の模様をリポートします。
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Dr.クリーンがSCREENの技術について分かりやすく解説します。
ダメージを抑え、歩留まり向上に貢献する、物理洗浄技術(Nanosprayシリーズ)。
http://www.screen.co.jp/spe...
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処理の高精度化で、半導体デバイスの生産効率と、歩留まり向上に貢献 。
高精度ベベルエッチング(BEC)技術
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環境負荷とランニングコストを大幅に抑制する、ドライエア乾燥(DAD)技術。
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